應用要求

等離子噴涂工藝需要高精準和穩(wěn)定的等離子氣流。此外，氣體壓力的監(jiān)測對于等離子過程的良好控制也很重要。Bronkhorst可以提供適合此應用的質量流量控制器和壓力控制器以及對等離子噴涂系統(tǒng)非常有效的定制解決方案。

重要議題

• 高精度
• 穩(wěn)定控制
• 數(shù)字通信
• 完整緊湊的子系統(tǒng)

工藝方案

在特定的火炬中，通過例如等離子氬氣產生等離子體流。在等離子射流中，溫度將達到接近10000攝氏度。我們可以將粉末（有時是液體）引入等離子體射流中。由于高溫，粉末將熔化并推向基材。在那里，熔化的液滴變平，迅速凝固并形成沉積物。引入的粉末可以由各種金屬制成，這取決于層厚度、沉積物的功能或物理性質。等離子噴涂時的層厚范圍為20微米至幾毫米，這取決于工藝和粉末。大量技術參數(shù)會影響到基板上顆粒間的相互作用。例如火炬偏移、流速和能量輸入等參數(shù)都很
重要。因為等離子體射流是由等離子體氣體的受控流速產生的，所以流量控制器至關重要。監(jiān)控壓力對于控制系統(tǒng)和監(jiān)測空的等離子氣瓶非常重要。通常系統(tǒng)會加過濾器，以確保等離子噴涂過程不會涉及其它顆粒。